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München. Expertinnen und Experten des chinesischen Patentamts stellen heute die Neuerungen des chinesischen Patentgesetzes im Deutschen Patent- und Markenamt (DPMA) vor. Sie erläutern, welche Auswirkungen die 3. Patentrechtsnovelle, die zum 1. Oktober 2009 in Kraft getreten ist, für Patentanmelderinnen und -anmelder und auf Patentstreitigkeiten hat. Mehr als 100 Vertreterinnen und Vertreter aus Wirtschaft, Wissenschaft, Rechts- und Patentanwaltschaft nehmen an der Veranstaltung teil.
"Wir blicken auf über 30 erfolgreiche Jahre intensiver Zusammenarbeit zwischen den Patentämtern Chinas und Deutschlands zurück. Die gegenwärtige Entwicklung des Patentrechts in China ist auch für Deutschland von großem Interesse", erläutert Cornelia Rudloff-Schäffer, Präsidentin des DPMA. Die deutsche Behörde hat den Aufbau des Staatlichen Amts für geistiges Eigentum der Volksrepublik China (SIPO) unterstützt und die Entwicklung auf dem Gebiet des Patentrechts in China begleitet.
Das heutige Symposium findet im Rahmen des IPR2-Projekts der Europäischen Union statt, das das DPMA für Deutschland koordiniert. Mit dem Projekt wird die Integration Chinas in das Welthandelssystem gefördert und der Übergang in eine Marktwirtschaft unterstützt. Dadurch soll die Durchsetzung geistiger Eigentumsrechte in China verbessert werden. Organisatoren des Symposiums sind neben dem DPMA das Europäische Patentamt und das Bundespatentgericht.
© 2008 Deutsches Patent- und Markenamt | Stand vom 11.02.2010